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產(chǎn)品介紹
microPREP PRO是用于微米級(jí)激光樣品制備的工具。它使基于激光的樣品制備能夠用于各種樣品制備應(yīng)用。它補(bǔ)充了現(xiàn)有的樣品制備方法，如離子束處理。microPREP PRO可以燒蝕金屬、半導(dǎo)體、陶瓷、聚合物和化合物材料。它為材料和工藝開(kāi)發(fā)以及失效分析創(chuàng)造了新的前景。microPREP PRO系統(tǒng)的主要組件是一個(gè)激光源，可以實(shí)現(xiàn)高精度的高消融率。根據(jù)個(gè)人準(zhǔn)備需要，可提供不同的激光源。microPREP PRO的定位系統(tǒng)配有壓電執(zhí)行器和兩個(gè)攝像頭，使用戶可以將樣本直接帶到超準(zhǔn)確的位置，以完成所需的準(zhǔn)備任務(wù)。集成清潔系統(tǒng)可防止光學(xué)元件受到污染。
性能特點(diǎn)
- 緊湊型設(shè)計(jì)和激光等級(jí)1（IEC 60825-1）
- 超短脈沖激光選項(xiàng)
- 壓電驅(qū)動(dòng)定位系統(tǒng)
- 短暫的預(yù)熱階段-立即可用
- 空氣冷卻
- 功能強(qiáng)大、直觀的microPREP軟件
技術(shù)參數(shù)
- 產(chǎn)地：德國(guó)
- 機(jī)器尺寸
- 高度：1615 mm，包括輥
- 寬度：980mm
- 深度：780 mm
- 重量：350 kg
- 激光裝置
- 最大功率：3 W
- 波長(zhǎng)：532 nm
- 頻率：20-70 kHz
- 脈沖能量：高達(dá)60µJ
- 帶Fθ透鏡的掃描儀
- 焦距：f=100 mm
- 掃描場(chǎng)：最大45 mm x 45 mm
- 光斑直徑：<12µm
- 電氣
- 額定電壓：110-230 VAC
- 頻率：50/60 Hz
- 功率：0.6 kW
- 環(huán)境條件
- 溫度：18至24°C（64至76°F）
- 最高精度溫度：21°C（70°F）
津公網(wǎng)安備12010102000950號(hào)