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SAN DRAW S180：硅膠 3D 打印的高精度與靈活性
在 3D 打印技術(shù)向材料細(xì)分領(lǐng)域深耕的當(dāng)下，SAN DRAW 推出的 S180 3D 打印機(jī)憑借對(duì)流體材料的精準(zhǔn)掌控，在精度、兼容性與操作便捷性上實(shí)現(xiàn)了突破，為專業(yè)制造場(chǎng)景提供了全新解決方案。 -
CRYLAS 脈沖激光器 FTSS355-300
CRYLAS 脈沖激光器 FTSS355-300內(nèi)置的光電二極管實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)光束輸出能量，并將數(shù)據(jù)傳遞給閉環(huán)控制系統(tǒng)，結(jié)合二極管電流評(píng)估實(shí)現(xiàn)快速溫度調(diào)節(jié)，有效抵消泵浦諧振腔產(chǎn)生的熱量，將激光功率噪聲控制在極低水平，確保輸出功率穩(wěn)定可靠。 -
【喬遷之喜】天津瑞利光電科技喬遷新址：以光啟新程，共繪光電藍(lán)圖
“從舊址到新家，變的是門牌號(hào)，不變的是一路同行的溫暖。感謝合作伙伴和公司員工精心準(zhǔn)備的暖心花籃，以芬芳傳遞感謝，以儀式感凝聚團(tuán)隊(duì)，讓我們?cè)诠怆娬魍旧细械讱狻?/div>
【光電前沿】波前探測(cè)器：高精度光學(xué)測(cè)量的核心工具
哈特曼-夏克（Hartmann-Shack）技術(shù)：利用微透鏡陣列將光束分割為多個(gè)子光束，通過(guò)CCD或CMOS探測(cè)器測(cè)量各子光束的焦點(diǎn)偏移量，計(jì)算波前斜率，進(jìn)而重構(gòu)波前相位。該技術(shù)具有實(shí)時(shí)性強(qiáng)、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單等優(yōu)點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于自適應(yīng)光學(xué)、激光檢測(cè)等領(lǐng)域。
西克IO-Link 智能網(wǎng)關(guān) SIG300
作為連接傳感器層與云端的橋梁，SIG300 通過(guò)協(xié)議互操作性、邊緣計(jì)算能力和智能數(shù)據(jù)處理，重新定義了工業(yè)設(shè)備的集成模式，實(shí)現(xiàn)從生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)到企業(yè)級(jí)系統(tǒng)的端到端數(shù)字化。
AEON SAC20r：高性能半導(dǎo)體光放大器
SAC20r 掃源放大器以先進(jìn)技術(shù)、穩(wěn)定性能與多元應(yīng)用場(chǎng)景，為光電子領(lǐng)域的信號(hào)處理提供了強(qiáng)有力的解決方案，成為科研與工業(yè)應(yīng)用中的理想選擇。
【品牌推薦】天津瑞利優(yōu)選品牌GULMAY：重新定義工業(yè)X射線標(biāo)準(zhǔn)
GULMAY成立于英國(guó)，擁有超過(guò)40年的研發(fā)與制造經(jīng)驗(yàn)，是工業(yè)X射線高壓系統(tǒng)領(lǐng)域的先驅(qū)之一。在英國(guó)設(shè)有總部和制造工廠，并在美國(guó)、中國(guó)等地設(shè)立服務(wù)中心，構(gòu)建了覆蓋全球的銷售與服務(wù)網(wǎng)絡(luò)。作為全球領(lǐng)先的X射線高壓系統(tǒng)制造商，GULMAY的產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于無(wú)損檢測(cè)、測(cè)厚、分選、安全檢查等領(lǐng)域，全球安裝量超過(guò)15,000臺(tái)。
【光電前沿】X光發(fā)生器：穿透物質(zhì)的核心設(shè)備與多元應(yīng)用解析
X光發(fā)生器通過(guò)加速電子轟擊金屬靶材（如鋁、鎂、鎢等），使靶材原子內(nèi)層電子受激躍遷，外層電子填補(bǔ)空位時(shí)釋放高能X射線。這一過(guò)程遵循能量守恒定律，電子動(dòng)能轉(zhuǎn)化為X射線光子能量，其穿透力與靶材原子序數(shù)及電子能量正相關(guān)。
威卡80GHz雷達(dá)物位計(jì)提高鋰電NMP回收效率
威卡80GHz雷達(dá)物位計(jì)如同毫米波利刃，穿透迷霧：80GHz高頻帶來(lái)的窄波束角（可低至3°），能夠輕松穿透塔內(nèi)彌漫的蒸汽與粉塵干擾，有效規(guī)避內(nèi)部支架、攪拌槳等結(jié)構(gòu)產(chǎn)生的虛假回波，直達(dá)真實(shí)液面，測(cè)量精度達(dá)到±2mm。
Optoplex推出一系列用于量子應(yīng)用的光延遲線（ODL）和延遲線干涉儀（DLIS）
加州弗里蒙特，2024年11月20日——Optoplex今日推出一系列專為嚴(yán)苛量子應(yīng)用而設(shè)計(jì)的光延遲線 (ODL) 和延遲線干涉儀 (DLI)。
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